富士通クオリティ・ラボ

目的別分析ご案内-材料コース

材料名や不良現象をキーワードに、分析内容や分析方法をご紹介します。

材料
材料 どこの 何を 何のために 分析方法
封止材料,
接着剤
主要成分 種類 仕様作成,ロット管理 熱分解GC-MS,
FT-IR
添加剤 熱分解GC-MS
リンの有無 購入時の使用可否判断 ICP-AES
イオン成分(塩素,臭素) IC
フィラー 仕様作成,ロット管理 TG-DTA
種類 EPMA
硬化物 加熱発生ガスの種類と量 周囲への影響,
ロット管理
TCT-GC-MS
含有イオン 腐食,汚染調査 IC
耐熱性 使用種類の選定 TG-DTA
硬化度合い 硬化条件の最適化 DSC
パッケージ用
セラミック
セラミック部材 主成分元素分析 仕様作成,ロット管理 EPMA
不純物元素分析 ICP-AES
電極部 主成分元素分析 EPMA
不純物元素分析 EPMA
ワイヤ
ボンディング材
金ワイヤ 不純物元素分析 ICP-AES
リードフレーム 主成分元素分析 EPMA
不純物元素分析 ICP-AES
バンプ 主成分元素分析 EPMA
不純物元素分析 ICP-AES
汚染イオン成分 濡れ不良防止 IC
プリント板
材料
銅箔 不純物 ロット管理 ICP-AES
レジスト 樹脂成分 FT-IR
溶剤成分 GC-MS
不純物元素の種類 EPMA
不純物元素の量 ICP-AES
基材 断面構造,ビア形状 OM,SEM
パッド部 めっき厚さ 条件の最適化,ロット管理 OM,TEM,
FE-SEM
めっき層の拡散状態 FIB,FE-SEM
めっき層の偏析の有無 EPMA
各種はんだ 金属部 合金組成 ロット管理 EPMA
不純物元素 ICP-AES
融点測定 DSC
フラックス部 有機成分 FT-IR
溶剤成分 GC-MS
洗浄剤 不純物元素 ICP-AES
有機成分 FT-IR,
GC-MS
はんだ槽 液の金属成分組成 品質管理 ICP-AES
不良現象
現象 部品,材料 部分 分析内容 分析方法
ショート,
短絡
フリント板 配線部 表面腐食部の形状・元素分析 EPMA
配線間のマイグレーションの有無
配線間の洗浄残異物の有無
LSIパッケージ 隣接バンプ間 断面観察による原因調査 FIB-SIM
導通不良 プリント板,
LSIパッケージ等
はんだ接合部 形状観察 SEM
断面組成分布 EPMA
パッド部断面 クラック形状観察,異物組成 AES
リード端子 表面付着物・変質層 AES,XPS
剥離 LSIパッケージ はんだバンプ接合部 断面組成分布 EPMA,AES
積層膜部 深さ方向組成分布 AES
ボンディング剥離部 合金層生成状態,異物の有無 EPMA
筐体 塗装 剥離面付着物 XPS
濡れ不良 プリント板 パッド 表面状態 XPS
付着物,酸化膜厚 AES
ボンディング性 LSIパッケージ ボンディングパッド 表面組成,変質層の厚さ AES
変色 プリント板 電極 生成物の組成 EPMA,AES
有機付着物の同定 FT-IR,XPS
薄膜など 金属,樹脂表面 化学的結合状態 XPS