富士通

オゾン層破壊の防止

オゾン層破壊物質の全廃

製造工程(部品洗浄や溶剤)におけるオゾン層破壊物質の使用については、精密水洗浄システムや無洗浄はんだ付け技術の導入により、全廃を完了しています。空調設備(冷凍機など)に使用されている冷媒用フロンについては、漏洩対策を行うとともに設備の更新時に非フロン系への切り替えを進めています。

オゾン層破壊物質全廃実績

オゾン層破壊物質 全廃時期
洗浄用フロン
(CFC-113,CFC-115)
1992年末
四塩化炭素 1992年末
1,1,1-トリクロロエタン 1994年10月末
代替フロン(HCFC) 1999年3月末